|
|
|
|
LEADER |
01051nam a2200289 i 4500 |
001 |
NSK01000826559 |
003 |
HR-ZaNSK |
005 |
20121213125708.0 |
007 |
ta |
008 |
121213s1973 ci d m 000 0 hrv |
035 |
|
|
|a (HR-ZaNSK)000826559
|
040 |
|
|
|a HR-ZaNSK
|b hrv
|c HR-ZaNSK
|e ppiak
|
041 |
0 |
|
|a hrv
|b eng
|
042 |
|
|
|a croatica
|
044 |
|
|
|a ci
|c hr
|
080 |
|
|
|a 54
|2 MRF 1998.
|
080 |
|
|
|a (043.2)
|2 MRF 1998.
|
100 |
1 |
|
|a Etlinger, Božidar
|
245 |
1 |
0 |
|a Studij defekata uvedenih implantacijom niskoenergetskih kanaliziranih iona p31 u p-tip silicija :
|b magistarski rad /
|c Božidar Etlinger ; [voditelj Natko Urli].
|
260 |
|
|
|a Zagreb :
|b B. Etlinger,
|c 1973.
|e ([s. l. :
|f s. n.])
|
300 |
|
|
|a III, 74 lista :
|b graf. prikazi ;
|c 30 cm.
|
500 |
|
|
|a Na vrhu nasl. str.: Sveučilište u Zagrebu.
|
502 |
|
|
|a Sveuč. u Zagrebu, Zagreb, 1973.
|
504 |
|
|
|a Bibliografija: listovi 67-70.
|
504 |
|
|
|a Summary: Study of defects in p-type silicon implanted with channeled lowe energy phosphorus ions.
|
981 |
|
|
|p CRO
|r HRB1973
|
998 |
|
|
|o abra1212
|